在掃描電鏡（SEM）中，電子束的產生和聚焦是通過一系列復雜的電子光學組件實現(xiàn)的。以下是電子束在SEM中的產生和聚焦的基本過程：

電子源： SEM使用的電子源通常是熱陰極電子槍。在電子槍中，熱陰極（通常是鎢絲）受到電流加熱，釋放出電子。這些電子被發(fā)射并形成一個初始的電子云。

電子發(fā)射： 電子通過熱陰極的電場勢能被加速，然后被引導到電子槍的出口，形成初步的電子束。

透鏡系統(tǒng)： 初步的電子束通過一系列的透鏡系統(tǒng)。透鏡系統(tǒng)包括聚焦透鏡、對焦透鏡和孔徑透鏡，它們協(xié)同工作以聚焦和形狀調整電子束。

電磁透鏡： 在SEM中，通常使用電磁透鏡而不是光學透鏡，因為電磁透鏡對電子有更好的聚焦效果。電磁透鏡通過調節(jié)電磁場來聚焦電子束，而不是通過透鏡曲率。

孔徑透鏡： 孔徑透鏡用于限制電子束的直徑，從而提高分辨率。通過調整孔徑的大小，可以控制電子束的聚焦和形狀。

掃描線圈： 在SEM中，電子束的掃描是通過一個或多個掃描線圈實現(xiàn)的。掃描線圈產生磁場，通過調整磁場的大小和方向，可以準確控制電子束在樣品表面的掃描路徑。

樣品交互： 電子束掃描在樣品表面產生相互作用，產生反射的電子信號。這些信號被檢測并用于生成圖像。

ZEM20臺式掃描電鏡

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